非平衡磁控溅射中调制磁场的作用

　　研究了调制磁场对于非平衡磁控溅射系统的作用,调制磁场可以使非平衡磁控溅射形成具有较高等离子体密度的等离子体束流,延伸到靶前 110 m m以上。在靶前 6 0～110 mm的位置上,收集电流密度高达9～10 m A/ cm2 ,收集的电流密度比常规的磁控溅射方法高9倍以上,在调制磁场作用下磁控溅射沉积铜薄膜的沉积速率可以增加到14倍。